Máy quang phổ phát xạ Spark – OES 4850 series EXPEC
Mô tả tổng quan về sản phẩm:
Máy quang phổ là một thiết bị phân tích quang phổ sử dụng công nghệ quang phổ phát xạ nguyên tử, cấu trúc hệ thống thường bao gồm Nguồn, Chân đế đánh lửa, Hệ thống quang học, Hệ thống phát hiện, Hệ thống xử lý dữ liệu và các hệ thống phụ trợ khác như Hệ thống Argon, Hệ thống cung cấp điện, v.v.
Khi bắt đầu đốt, hệ thống Argon sẽ đẩy chân đế đánh lửa vào môi trường argon tinh khiết. Điện cực trong chân đế đánh lửa phóng điện với các mẫu kim loại đã chuẩn bị để tạo thành plasma. Ánh sáng phát ra từ plasma đi vào buồng quang học qua khe hở. Sau khi được chia bởi một cách tử, ánh sáng có bước sóng khác nhau được tách ra ở các góc khác nhau và chiếu vào các đầu dò. Cảm biến chuyển đổi tín hiệu quang thành tín hiệu điện, được truyền đến máy tính thông qua hệ thống đo lường. Bước sóng đặc trưng của các nguyên tố xác định mẫu kim loại có chứa các nguyên tố hay không và cường độ quang phổ xác định hàm lượng (định lượng). Sau khi xử lý bằng máy tính, kết quả phân tích được tính toán, hàm lượng của từng nguyên tố trong mẫu kim loại được hiển thị trên màn hình máy tính. Kết quả có thể được tóm tắt, lưu trữ, in ấn và truyền đi.
Máy phân tích kim loại OES 4820 EXPEC và OES 4850 EXPEC là máy quang phổ toàn phổ hiệu suất cao thế hệ mới được Hangzhou EXPEC Technology phát trển. Dòng sản phẩm này sử dụng cảm biến CMOS cấp độ nghiên cứu khoa học và công nghệ nguồn xung kỹ thuật số toàn phần có thể lập trình. Chúng sở hữu nhiều đặc tính như phân tích chính xác, ổn định, độ tin cậy và dễ sử dụng. Chúng phù hợp để phân tích hơn mười loại kim loại cơ bản như Fe (sắt), Al (nhôm), Cu (đồng), Zn (kẽm), Ni (niken), Co (coban), Ti (titan), Mg (magie), Pb (chì), Sn (thiếc), và có thể được sử dụng trong các ngành công nghiệp và lĩnh vực bao gồm đúc luyện kim, hàng không và du hành vũ trụ, sản xuất chính xác, xe thông minh, viện nghiên cứu, trường đại học và cao đẳng, v.v.
Tính năng
- Sử dụng cảm biến CMOS cấp độ nghiên cứu khoa học với hiệu suất tốt hơn
Cảm biến CMOS cấp độ nghiên cứu khoa học có độ nhiễu thấp hơn và phản ứng UV cao, có thể đạt được khả năng phát hiện PMT ở mức thấp cũng như khả năng phân tích toàn phổ của CCD.
- Độ nhiễu thấp
Phần tử nhạy sáng cấp độ nghiên cứu khoa học, độ nhiễu thấp hơn, khả năng chống nhiễu mạnh, độ ổn định được nâng cấp nhờ công nghệ chống quầng sáng
- Chống nhiễu
Đầu dò được tích hợp cao, có thể tránh nhiễu vào mạch ngoài
- Tốc độ đọc nhanh
Tốc độ đọc nhanh: Công nghệ OEO (Định hướng phần tử tối ưu – Optimal Element Oriented) được áp dụng, và các tín hiệu pixel được đọc riêng biệt để đạt được thiết kế tối ưu hóa thông số.
- Độ nhạy UV cao
Độ nhạy UV cao hơn, không cần phủ, đạt được phân tích thành phần phi kim loại (N, C, S, P), với kết quả tốt hơn.
- Sử dụng nguồn xung kỹ thuật số toàn phần có thể lập trình ổn định và đáng tin cậy
Nguồn xung kỹ thuật số toàn phần có thể lập trình có thể điều khiển kỹ thuật số việc tổng hợp nhiều xung công suất tần số cao để đạt được các dạng sóng cháy tùy ý, chẳng hạn như tia lửa điện, hồ quang điện và dòng điện phóng điện hỗn hợp. Nó có thể thiết lập dòng điện kích thích dựa trên các cơ sở và yếu tố khác nhau để đạt được kết quả kích thích và phân tích lý tưởng.
Tần số kích thích cao, lên đến 1000 Hz, đáp ứng các yêu cầu phân tích của các ứng dụng cao cấp.
Không có các thiết bị nhạy cảm với nhiệt độ như tụ điện và cuộn cảm, độ ổn định nguồn tốt, không cần bảo trì.
- Độ ổn định được cải thiện
- Buồng quang học hợp kim nhôm đúc tích hợp, xử lý giảm ứng suất 4 giai đoạn, hiệu suất bịt kín tốt, ổn định hơn.
- Thiết kế nhiệt độ không đổi của buồng quang học đảm bảo độ chính xác đạt 0,1°C, độ ổn định lâu dài và không bị trôi lệch vị trí quang phổ.
- Thiết kế luồng khí chính xác giúp kết quả phân tích ổn định hơn.
- Công nghệ tối ưu hóa quang phổ RTMC chuyên nghiệp mang lại trải nghiệm ổn định hơn.
- Hoạt động được cải tiến
- Thiết kế phần mềm thân thiện, giao diện ngắn gọn và rõ ràng hơn, thuận tiện hơn khi sử dụng và các chức năng phần mềm phong phú đáp ứng nhu cầu ứng dụng của nhiều khách hàng khác nhau.
- Sự kết hợp hoàn hảo giữa phần cứng chất lượng cao và các thuật toán chuyên biệt mang lại nhiều đảm bảo về độ ổn định, giám sát tốt hơn trạng thái hoạt động của thiết bị, cải thiện kết quả phân tích và giảm tần suất chuẩn hóa.
- Khả năng phát hiện toàn phổ giúp thiết bị không yêu cầu phần cứng bổ sung để thêm nền và nguyên tố. Phạm vi phân tích có thể được mở rộng thông qua phần mềm, giúp sử dụng linh hoạt hơn.
- Chương trình thông minh không cần chọn chế độ
Kiểm soát chất lượng
Tùy chỉnh các tiêu chuẩn chất lượng của người dùng để xác định xem thành phần mẫu có vượt quá tiêu chuẩn hay không và kết quả rõ ràng ngay lập tức.
Chương trình thông minh
Tự động chọn chương trình phân tích phù hợp, thu được kết quả phân tích chính xác để đạt được kết quả thử nghiệm tốt nhất. Có thể dễ dàng phân tích các mẫu chưa biết.
Nhận dạng cấp độ
Nhanh chóng nhận dạng cấp độ từ kết quả phân tích mẫu và theo dõi chất lượng sản phẩm.
Chẩn đoán tự động
Theo dõi trạng thái hoạt động của thiết bị theo thời gian thực và nhắc nhở kịp thời thời gian bảo trì và vệ sinh thiết bị.
Phân tích tương đương
Tùy biến chỉnh sửa các công thức tính toán cacbon tương đương và tính toán khả năng chống ăn mòn để kiểm soát các đặc tính vật liệu.
Truyền dữ liệu màn hình từ xa, đạt được khoảng cách bằng không giữa phân tích trong phòng thí nghiệm và nhà máy, đồng thời cho phép thay đổi nội dung giám sát và thành phần bất cứ lúc nào.
Chức năng bảo trì từ xa mới, có thể nâng cấp chương trình cơ sở từ xa, kiểm tra trạng thái thiết bị từ xa, chịu trách nhiệm theo dõi vòng đời thiết bị.
Máy quang phổ phát xạ Spark – OES 4850 EXPEC
Máy phân tích kim loại OES 4850 EXPEC là máy quang phổ toàn phổ hiệu suất cao thế hệ mới được EXPEC Technology phát triển dựa trên công nghệ quang phổ phát xạ hơn 10 năm kinh nghiệm. Công nghệ này lần đầu tiên được áp dụng cho máy quang phổ M5000 của công ty. Thiết bị được ra mắt vào năm 2009 và đã trải qua hơn 10 năm thử nghiệm và kiểm chứng trên thị trường. Độ ổn định và độ tin cậy của nó đã được khách hàng kiểm chứng. Thiết bị OES 4850 EXPEC mới sử dụng cảm biến CMOS đạt chuẩn nghiên cứu khoa học làm đầu dò, tuân theo thiết kế hệ thống quang học buồng đôi cổ điển kiểu Paschen-Runge. Hiệu suất tuyệt vời của thiết bị có thể đáp ứng nhu cầu phân tích của người dùng cao cấp.
Ưu điểm của hệ thống quang học kép:
Thiết kế quang học kép giúp OES 4850 EXPEC cải thiện đáng kể cường độ vạch phổ cực tím và độ chính xác đo lường các nguyên tố cực tím mà không ảnh hưởng đến phép đo vạch phổ khả kiến. Thiết bị cũng tận dụng ưu điểm về độ phân giải cao và dải bước sóng phổ rộng, với hiệu suất đo tốt cho nhiều nguyên tố hơn.
Hệ thống quang học UV được thiết kế độc lập, cho phép thu thập quang học trực tiếp phía sau chân đế tia lửa điện, giảm thiểu suy hao cường độ quang học và cải thiện hiệu suất truyền dẫn của các đường UV. Hệ thống được thiết kế đặc biệt để đo các nguyên tố UV như C, P, S, N, v.v., với các đường lưới cao hơn cho độ phân giải cao hơn.
Cấu trúc của hệ thống quang học cực tím tinh khiết hơn với buồng nhỏ (chỉ 0,17 lít) rất đơn giản và không có ngõ cụt. Sử dụng công nghệ thanh lọc argon nguyên bản, hệ thống có thể nhanh chóng xả khí ra ngoài, đạt được độ tinh khiết argon cao hơn và khả năng phát hiện quang học cực tím mạnh hơn, đảm bảo hiệu quả phân tích các nguyên tố cực tím.
Máy quang phổ phát xạ Spark – OES 4820 EXPEC
Mô tả giới thiệu sản phẩm
Máy phân tích kim loại EXPEC 4820 là máy quang phổ thế hệ mới được EXPEC Technology phát triển dựa trên công nghệ quang phổ phát xạ toàn phổ và công nghệ tự tinh chế argon cao cấp. Thiết bị được ra mắt và ra mắt vào năm 2016, ứng dụng nền tảng máy quang phổ toàn phổ M4000 của công ty, và đã trải qua nhiều năm thử nghiệm thị trường về độ ổn định và độ tin cậy.
Máy quang phổ EXPEC 4820 thế hệ mới sử dụng cảm biến CMOS đạt chuẩn nghiên cứu khoa học làm đầu dò và công nghệ tự tinh chế khí argon được cấp bằng sáng chế, mang lại hiệu suất vượt trội và đáp ứng nhu cầu phân tích từ trung cấp đến cao cấp.
Công nghệ Tự Tinh chế Argon được cấp bằng sáng chế (ZL201620005367.7)
Công nghệ tự tinh chế Argon sử dụng bơm để hút khí Argon trong buồng quang học, tinh chế bằng bộ lọc khí Argon và sau đó đưa trở lại buồng quang học, nhờ đó duy trì môi trường Argon có độ tinh khiết cao trong buồng quang học.
- Buồng quang học: sử dụng buồng quang học đúc được tích hợp với hiệu suất bịt kín tuyệt vời, có thể duy trì độ tinh khiết lâu dài của Argon bên trong và đảm bảo tuổi thọ của bộ lọc.
- Môi trường phân tích tia cực tím (UV) tương đương với buồng chân không 10-3Pa, cải thiện hiệu suất phân tích các nguyên tố sóng ngắn.
- Chênh lệch áp suất bên trong và bên ngoài buồng quang học gần như bằng không, và buồng quang học được bịt kín với nhiệt độ và áp suất không đổi, giúp tránh hiệu quả sự trôi dạt của hệ thống quang học do thay đổi áp suất môi trường và khí quyển, cải thiện độ ổn định lâu dài của sản phẩm.
- Giảm mức tiêu thụ Argon của hệ thống nạp Argon và giảm chi phí sử dụng hiệu quả.
Các lĩnh vực ngành – ứng dụng:
Thông số kỹ thuật lựa chọn model theo nhu cầu của lĩnh vực sử dụng:
| OES 4820 EXPEC | OES 4850 EXPEC | ||
| Optical System | Paschen-Runge optical system using multiple high-performance CMOS detectors | ||
| Optical chamber with argon self-purification system | Dual chamber argon purging optical system | ||
| Wavelength Range: 174~520 nm | Wavelength Range：140~680nm | ||
| Source | Programmable full digital pulse source | ||
| High energy pre-ignition technology, ignition pulse: 1~14Kv | |||
| Maximum discharge frequency: 1000Hz, Maximum discharge current: 400A | |||
| Spark excitation pulse: 20~230V, Arc excitation pulse: 20~60 V | |||
| Power supply and environmental requirements | Power supply voltage: (220 ± 20) V AC, (50 ± 1) Hz, single power supply with protective grounding | ||
| Maximum excitation frequency: 400W, Average standby power: 50W | |||
| Working temperature: 10~30 ℃, Storage temperature: 0~45 ℃, Working humidity: 20~80% RH | |||
| Spark Stand | Opened sample operation platform, which can be equipped with various sample adapters for special applications to meet different small sample analysis needs | ||
| Optimized argon flushing design, better argon saving and spark stability. | |||
| Easy to clean and maintain, intelligent reminder of maintenance cycle. | |||
| Argon | Aperture of spark stand: 13mm (optional: 6mm) | ||
| Purity: 99.999%, Pressure: 0.5MPa | |||
| Burning flow is about 3.5L/min, maintaining and standby flow is about 0.1L/min | Burning flow is about 3.5L/min, maintaining and standby flow is about 0.2L/min | ||
| Dimensions and weight | Length: 818mm, width: 590, height: 396mm weight: about 70Kg | Length: 623mm, width: 735mm, height: 443mm weight: about 70Kg | |
| EMC | IEC 610004-2, 61000-4-4, 61000-4-5 | ||
| Model | F | None | Dual optical chamber configuration, best UV analysis capability, capable of accurately analyzing N elements, meeting high-end analysis requirements for various matrixes such as Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Ti, Mg, Co, etc. |
| N | Suitable for all matrix analysis and can meet the matrix analysis requirements such as Fe, Al, Cu, Ni, and Zn | Dual optical chamber configuration, strong UV analysis capability, meeting various matrix analysis requirements for Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Ti, Mg, Co, etc. | |
| S | Suitable for nonferrous metal analysis and meet the matrix analysis requirements such as Al, Cu, Zn, and Mg | Single optical chamber configuration to meet Cu, Zn, and Mg etc. | |
